什么是纳米光刻(Nanolithography)？

纳米光刻是一个术语，用来描述制造难以置信的小结构的许多技术。所涉及的尺寸大约是几十纳米（nm）。纳米是十亿分之一米，比一根头发的宽度小得多。之所以使用"光刻"一词，是因为图案生成的方法基本上与书写相同，只是规模要小得多。纳米光刻可用于制造微芯片。纳米光刻是一种常见的方法，特别用于微芯片，被称为光刻技术。这种技术是一种并行的纳米光刻技术，在这种技术中，整个表面在一瞬间就被画上。光刻技术在尺寸上受到限制，但是，如果使用的光的波长太小，透镜就会完全吸收光。这意味着光刻技术不能达到某些替代技术的超精细尺寸。一种比光刻技术更小尺寸的技术是电子束光刻技术。利用电子束逐纳米地绘制图案，可以实现难以置信的小尺寸（约20nm）。然而，电子束光刻比光刻更昂贵、更耗时，这使得它很难在纳米光刻的工业应用中销售。由于电子束光刻的功能更像一个点阵打印机而不是一张闪光照片，这项工作使用光刻技术需要5分钟，而电子束光刻则需要5个多小时。新的纳米光刻技术正在不断地研究和发展，导致可能的尺寸越来越小。例如，极端紫外线光刻技术可以使用波长为13.5纳米的光虽然这一新领域仍存在障碍，但它有望实现远低于当前行业标准的尺寸。其他纳米光刻技术包括蘸笔纳米光刻技术，其中一个小尖端用于在表面沉积分子。蘸笔纳米光刻可以实现非常小的尺寸，但目前无法实现纳米光刻技术研究的资金来自许多地方，包括私人学术界、着眼于下一代纳米技术的未来派公司，而老牌电脑晶片制造商则希望将晶片缩小至远低于目前的尺寸。随着工业界对奈米科技的兴趣与日俱增，资助与研究无疑会在奈米光刻技术领域扩大，导致更熟练的技术，甚至更低的尺寸限制。