什么是光掩模(Photomask)？

光掩模是一种用于光刻工艺的不透明板。不透明表面上的开口或孔被布置成允许光线通过，从而将图案从光掩模转移到另一种材料上，如纸张上。光掩模通常用于制造半导体，这种技术将集成电路的图像和排列精确地传送到电路板上，这种过程被称为光刻技术。硅片表面涂有光刻胶，光掩模是一种光敏材料。光掩模在我们社会先进技术的发展中起着极其重要的作用。现代技术要求更小的组件，这就允许像非常小的手持计算机和其他小规模技术这样的设备存在。如果没有photmask或光刻技术，则这些设备中的电路和芯片无法准确传输。光掩模的设计由芯片制造商决定，芯片制造商通过多种语言和媒介对其具体细节进行了描述。由于每个制造商的设计规范各不相同，生产光掩模的公司必须对其设计有透彻的了解。制作掩模最重要的部分之一就是掩模本身。由于其精确性和低故障率，在大多数情况下，掩模是由高质量的铬制成的。掩模在半导体生产中起着至关重要的作用，这需要光刻程序。现代光刻工具配备了高光圈透镜，用来通过光掩模传输光。从这些设备投射的光穿过光掩模内的图案，并将其投射到硅片上。晶圆表面涂有光刻胶，是一种感光材料然后用负的光刻胶去除材料的掩模部分；为了逆转这个过程，使用正的光刻胶。芯片的每一层都需要一个独特的光掩模。大多数半导体至少有30层，因此每个半导体至少需要30个独特的光掩模。然而，光掩模，不仅仅是一种在芯片上追踪图案的方法这是因为电路的排列非常精确，它们的图案必须尽可能精确地传送。光刻技术允许非常精确的设计传输。光掩模有助于计算机芯片的小型化。这是因为更小的芯片需要高度精确的总体布局图像，如果没有光刻工艺，这几乎是不可能的，没有光掩模，小型手持式计算机几乎是不可能的，因为它们的小电路和芯片需要精确的排列。